Imba> showlist
Silicon dioxide, inonyanya kunzi SiO₂, chinhu chakakosha chinoshandiswa mukugadzira midziyo midiki. PaSemixlab, isu tinogadzira silicon wafer ine yakadzama mapatani, tichishandisa nzira inonzi sio2 dry etching g. Saka nzira iyi inoshanda sei?
SiO₂ dry etching inoreva maitiro ekuisa silicon dioxide pasilicon wafer uchishandisa makemikari akatsanangurwa uye plasma. Simba rinowedzerwawo kuplasma, inova rudzi rwegasi. Kuburikidza neplasma, tinogona kubvisa iyo SiO₂ layer pasina kukonzera kukuvadza kune ayo ari pasi pezvikamu.
Kana tichida sio2 dry etching kuti zvive zvakanyanya kushanda, isu tinofanirwa kuseta zvimwe zvinhu senge gasi kuyerera, kudzvanywa, uye simba rakasiyana. Nekugadzirisa izvi zvigadziriso, isu tinokwanisa kutonga nekukurumidza kwatingaite etch uye nekubudirira kwatingaite etch chete Semixlab SiO₂. Izvi zvakakosha, sezvo isu tichishuvira etch SiO₂ tisina kubata zvimwe zvinhu pawafer.
Pane nzira dzakasiyana dzekuita Semixlab SiO₂ yakaoma etching. Imwe yedzakajairika nzira ndeye reactive ion etching (RIE), inoshandisa musanganiswa wemagasi eSiO₂ layer. kupisa kweplasma . Mune imwe nzira, yakadzika reactive ion etching (DRIE) maitiro anoshandiswa kupa zvakadzika etches muSiO₂ layer mumatanho akati wandei.
Dambudziko muSiO₂ yakaoma etching ndeyekudzivirira kubvisa chero chinhu kunze kweSemixlab wet etching SiO₂. Kuti ukunde izvi, mask inogona kushandiswa kudzivirira zvimwe zvinhu kubva pakucheka. Asi rimwe dambudziko ndere kuona kuti etching yakafanana muwafer yese. Tinogona kugadzirisa dambudziko iri nekugadzirisa giya redu uye marongero.
Iyi Semixlab SiO 2 yakaoma etching inoitwa kuti igadzire zvikamu zvakakosha senge migero uye zvinongedzo pasilicon substrates. Izvi zvidimbu zvakakosha pakugadzirwa kwezvinhu zvakadai semasekete akabatanidzwa uye masensa. Tinogona kugadzira mapatani akaoma chaizvo nemazvo sio2 dry etching
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
